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1997年6月建站 |
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A&B金相電解拋光機 EPM-2000
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電解拋光的優點就是在其速度與無刮痕的拋光面，此外，對於切割及研磨所殘留的應興層皆能完全去除。某些耐熱金屬(如：Ti-Zr)，其材質較軟，而且在低的應呈速率下會產生雙晶，以機械方式拋光時，即便採用慢速鑽石膏拋光亦無法避免產生雙晶，此時若改以電解拋光，則問題則可改善。 在一般進行固定材料的金相檢驗工作時，電解拋光可較機械拋光省去不少時間，當拋光完成後只須將電壓調低，浸蝕的工作就可直接在電解液中進行，對無經驗的實驗人員而言，只要有標準的操作條件可依循，亦可得到相同的結果，不低機械拋光常需要藉助一些經驗的累積。
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| A&B金相電解拋光機 |
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| 規 格 |
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電解拋光機： 1. 電解槽：直徑50mm 深度50mm 2. 攪拌速度：0~1250轉/分鐘 3. 加熱溫度：室溫~400℃，可恆溫控制 4. 定時攪拌：0~999分鐘 5. 電源：110V 6. 尺寸：390×180×120mm 7. 重量：2.8Kg 可程式控制器： 1. DC輸出：低檔位0~30V/0~6A 高檔位0~60V/0~3.3A 2. 恆壓源操作：調節率(輸出的%+偏移)：負載調節率≦ 0.01% + 2mV 電源調節率≦ 0.01% +2mV 漣波和雜訊：<500uVrms/3mVpp<1mVrms/3mVpp(Rating voltage>50V) 3. 恆流源操作：調節率(輸出的%+偏移)：負載調節率≦ 0.01% + 250uA電源調節率≦ 0.01% +250uA 漣波和雜訊：2mArms 4. 解析度：設定輸出：電壓2mV電流0.5mA 讀回值：電壓1mV電流0.5mA 前板：電壓1mV電流1mA(<10A)，10mA(≧10A) 5. 過電壓保護：10mV 6. 過電流保護：10mA 7. 電壓設定反應時間(電阻性負載)：上升：滿載80ms無負載100ms；下降：滿載30ms無負載450ms 8. 穩定度± (輸出的%+偏移)：電壓0.02% + 1mV電流0.1% + 1mA 9. 記憶：儲存/呼出點：0~99 10. 溫度係數( 每度°C+ (輸出的% +偏移))：電壓0.01% + 3mV電流0.01% + 3mV 11. 使用電源：AC 100V/120V/220V+10%，230V +10%~ -6%, 50/60Hz 12. 尺寸：230×140×380mm 13. 重量：10Kg |
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